莱伯泰科取得实用新型专利授权：“用于半导体痕量元素开关盖进样剖析的复合垂向臂结构”

  证券之星音讯，依据企查查多个方面数据显现莱伯泰科（688056）新取得一项实用新型专利授权，专利名为“用于半导体痕量元素开关盖进样剖析的复合垂向臂结构”，专利申请号为CN1.9，授权日为2024年1月9日。

  专利摘要：本实用新型供给一种用于半导体痕量元素开关盖进样剖析的复合垂向臂结构，具有电动升降组件、电动滚动组件、开关盖组件以及取样组件，所述电动升降组件可以驱动所述电动滚动组件进行升降动作，所述开关盖组件以及取样组件装置在所述电动滚动组件上，并可以被所述电动滚动组件驱动同步旋转。本实用新型经过将开关盖组件与取样组件整合到同一个复合垂向臂结构上，具有简略、高效、速度快的长处。

  今年以来莱伯泰科新取得专利授权1个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研制方面投入了2171.83万元，同比增27.16%。

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