韩国的中小型半导体公司开端跟随着英伟达、台积电的脚步,进行下一代产品量产的开展与出产。
ZDNet Korea报导称,韩国中小型制造业正在合作英伟达和台积电下一代技能的引入,特别是在英伟达方案于2025年正式宣布的下一代B300 AI芯片。
这款芯片将是英伟达Blackwell架构旗下效能最高的产品,需求新的资料与设备来合作,促进韩国中小半导体公司开端紧盯进展。
英伟达B300 AI芯片估计将装备12层堆叠的HBM3E内存,并以板载方式出产,整合高功能GPU、HBM和其他芯片。
这一改变意味着,假如新的AI芯片改用基板出产形式,旧型的衔接界面将会带来效能问题,因而GPU和载板之间的安稳衔接被认为是需求战胜的瓶颈。
衔接介面主要由韩国和中国台湾的后端制程组件公司供给,这一些企业从2024年第四季度起供给新的衔接介面产品测验。
台积电也正在晋级CoWoS先进封装,CoWoS将半导体芯片水平放置在基板的硅中介层上,台积电用更小中介层CoWoS-L于最新HBM产品。
CoWoS电路丈量选用3D光学检测,布线微米时,功能约束使丈量困难,台积电制定将AFM(原子显微镜)用于CoWoS。
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